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依田 修; 栗山 将
J.Mater.Sci., 14(7), p.1733 - 1743, 1979/00
被引用回数:13リニアポリエチレンに500Mrad以上の大量の線を照射したときの、結晶のサイズ分布と格子歪の変化をX線のプロフィル解析により調べた。微結晶のサイズ分布はラテラル方向ではある線量に達しないと変化しないのに対し分子鎖方向は照射線量と共に減少する。これは照射によってラメラ表面から架橋が生成し、微結晶を分子鎖方向から崩壊させるためと考えられる。
依田 修; 栗山 将
J.Polym.Sci.,Polym.Phys.Ed., 15(5), p.787 - 793, 1977/05
高温(100C)で圧延したポリエチレン(PZ)の[100]方向における微結晶サイズの分布と格子歪を、PZ200プロフィルの解析によって求めた。圧延比の小さな領域では、微結晶の[100]方向の破壊が起るが、圧延比の大きな領域では破壊は起らない。前報(?)の結果と併せて、圧延比の小さなところでは、微結晶の配向は、結晶内スリップによって、圧延比の大きな領域では結晶間スリップによって微結晶が配向することを明らかにした。 格子歪には、圧延による差異は認められなかった。これは変形温度が高いことによるものと思われる。
土井 健治; 森 正武*
Japanese Journal of Applied Physics, 3(2), p.112 - 116, 1964/00
抄録なし
土井 健治
Acta Crystallographica, 14(8), p.830 - 834, 1961/00
被引用回数:14抄録なし